الطبقة العازلة The insulating layer
المؤلف:
الدكتور صبحي سعيد الراوي
المصدر:
فيزياء الألكترونات
الجزء والصفحة:
613
10-10-2021
2718
الطبقة العازلة The insulating layer
بعد أن يتم انماء الطبقة الفوقية n على طبقة لاساس توضع الرقاقات في فرن يحتوي على الاوكسجين او بخار الماء وفي درجة حرارية تتراوح مابين 200 الى 1300 مئوية . يعمل الاوكسجين على اختراق سطح السيلكون ويتحد كيمياويا مع ذرات الشبكة البلورية مكونا مادة صلبة. مستقرة وخاملة كيمياويا. شبيهة بالزجاج تدعى باوكسيد السيلكون (SiO2) - انظر الشكل (1).
يكون سمك الطبقة العازلة (SiO2) في حدود 1 مايكرومتر وتعمل على حماية الطبقة الفوقية من التلوث وكذلك من أي تفاعل كيمياوي محتمل. وبهذا تكون الرقاقة في حالة تسمح بأجراء العمليات الاخرى للازمة التي تقود أخيرا الى بناء الدائرة المتكاملة.
الشكل (1) طبقة الاساس مع الطبقة الفوقية وثاني اوكسيد السيلكون (SiO2).
0
0
لا توجد تعليقات بعد
ما رأيك بالمقال : كن أول من يعلق على هذا المحتوى
الاكثر قراءة في الألكترونيات
اخر الاخبار
اخبار العتبة العباسية المقدسة
